薄膜沉积

薄膜被认为是表面上的一层,其厚度从几分之一纳米(10-9米)到微米(10-6米)不等,在真空中进行薄膜镀膜主要有两种方法。第一个是PVD或物理气相沉积,第二个是CVD或化学气相沉积。PVD涉及粒子的物理运动,而CVD涉及化学反应。请注意,薄膜沉积还有许多其他类型和子集,但PVD和CVD是本文讨论的唯一两种。

对于PVD,有两种主要方法;蒸发和溅射。蒸发和溅射通常在真空下进行,原因是随着压力的降低(或系统在真空中的深度),蒸汽压力(物质从固体/液体变为气体的压力)降低,因此可以使用较低的温度。这有助于防止高温对被涂物的任何负面影响。此外,去除PVD的气氛,可以让蒸发的材料更直接地到达被涂物。

 

从下面的图A和图B可以看出,蒸发是相当直接的。真空室被抽空并施加热量,薄膜材料被蒸发到物体上。溅射稍微复杂一些,真空室和涂层材料之间应用了电位差。然后将惰性气体(如氩气)添加到真空室中,导致放电,将涂层材料分散到物体上。

CVD工艺涉及使用一种材料与被涂层物体上的另一种材料反应或分解。这通常是通过加热激活的,但在某些情况下也可以使用光或等离子体作为催化剂。正因为如此,CVD工艺往往在更高的温度下运行,这可能是一个问题,这取决于被涂覆的物体。

薄膜沉积有多种应用,包括:?

半导体制造、太阳能电池板、电池、电动操作涂层、产品表面处理,如装饰涂层、光学涂层或保护涂层。

So which Televac® products are useful for thin film deposition? The first is the MX200 vacuum controller with a 4A/7B vacuum gauge combination. This will give vacuum measurement from atmosphere (1000 Torr) down to 10-7 Torr. The sensors are connected to the controller with cables, allowing for a remote display, and many analog and digital communication options are available including analog 0 to 10 V DC, EthernetIP, RS-232/RS-485, and USB.

另一种选择是使用有源真空计。使用有源真空计,控制电子元件直接安装在传感元件上,在这种情况下,我们至少要使用两个有源真空计;MX4A热电偶真空计用于测量从大气压(1000 Torr)到10-3Torr,MX7B冷阴极真空计用于测量从10-3Torr到10-8Torr。类似的输出选项有模拟0至10 V DC、以太网IP和RS-485。请注意,许多有源真空计可以串联在一起,各种真空计可以用来实现与本文概述的不同测量范围。

请注意,这篇文章与我们关于半导体制造的文章密切相关,因为薄膜工艺被用于半导体制造

产品介绍

Televac真空控制器真空控制单元真空压力控制器,MX200,Fredericks,215 947 2500。

MX200真空控制器

• 1*10-11 Torr  to 1*104 Torr
• Control up to 10 Televac® vacuum gauges
• Easy-to-read OLED display

Televac 真空计 对流计 pirani 真空传感器

4A对流真空计

• 1*10-3 Torr to 1000 Torr
• Millisecond response time
• Compact, robust design

Televac真空计冷阴极计笔宁电离计

7B潘宁磁控冷阴极真空计

- 1*10-7托尔至1*10-3托尔之间。
- 坚固且高度抗污染
- 易于拆卸和清洁

对流真空计 pirani, MX4A, Televac The Fredericks Company, 215 947 2500.

MX4A对流主动真空计

- 1*10-4托尔至1000托尔。
- 传感器易于更换
- 抗污染

Televac真空计冷阴极电离计笔宁电离计

MX7B 冷阴极主动真空计

- 1*10-3托尔至1*10-8托尔。
- 坚固且高度抗污染
- 简单地将传感器与电子元件断开
- 多色OLED显示屏,具有完整的菜单功能。